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2026 CIOE中国光博会圆满收官|科伟达7C76展位回顾

作者: 深圳市科伟达超声波设备有限公司发表时间:2026-09-15 15:15:37浏览量:46

本次展会,科伟达带去了四款代表性设备:等离子清洗机、去离子超纯水机、无废水清洗线、精密光学光纤自动清洗系统,覆盖从清洗用水制备到精密光学器件清洗、再到环保清洗产线的不同应用场景。
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2026年9月9日至11日,第二十七届中国国际光电博览会(CIOE)在深圳国际会展中心圆满举办。作为全球光电全产业链一站式平台,本届展会汇聚超4000家光电企业,覆盖信息通信、精密光学、激光及智能制造、红外、智能传感、新型显示等全产业链板块,吸引数万名专业观众到场参观交流。

在这场光电领域的年度盛会上,科伟达(KEEPAHEAD)在7号馆7C76展位亮相,聚焦光学制造、精密光电、半导体封装等高端制造领域的精密清洗解决方案,与业界共同探讨清洗工艺如何助力光电产品良率提升。


✅ 四款展品亮相,聚焦光电精密清洗核心场景

本次展会,科伟达带去了四款代表性设备:等离子清洗机、去离子超纯水机、无废水清洗线、精密光学光纤自动清洗系统,覆盖从清洗用水制备到精密光学器件清洗、再到环保清洗产线的不同应用场景。

等离子清洗机

去离子超纯水机

无废水清洗线

精密光学光纤自动清洗系统

✅现场交流:新老朋友齐聚,共话光电清洗难题

三天展期,7C76展位热度不减。来自光学制造、精密光电、半导体封装、光纤器件等行业的专业观众纷纷驻足,与技术团队深入交流清洗难题与工艺需求。

有的客户来现场咨询光学镜片镀膜前的基片清洗方案,有的是现有清洗线效率低、耗材多、环评过不了,还有的是新产线需要配套清洗方案。科伟达团队现场逐一分析——从超声波空化到精密光学清洗,从工艺参数到非标定制方案,讲得比产品手册还细。

✅ 关于科伟达

科伟达成立于1997年,总部位于深圳龙华。公司是国家专精特新“小巨人”企业、国家高新技术企业,累计获得100余项专利技术,通过ISO9001质量管理体系认证,产品出口美国、日本、欧盟等国家和地区。

旗下设有清洗事业部、碳氢事业部、环保事业部三大业务板块,覆盖超声波清洗、碳氢真空清洗、蒸汽清洗、纯水设备、废液减量处理五大技术方向,服务于汽车、新能源、半导体、航空航天、医疗器械、精密五金、光学等多个高端制造领域。

✅收官不散场:展会落幕,服务启程

感谢相遇,后续可期

三天的展会结束了,但交流才刚刚开始。感谢每一位莅临7C76展位的朋友,感谢每一位关注科伟达的行业同仁。

展会期间未能到现场的朋友,如有精密清洗方面的需求,欢迎随时联系我们。科伟达团队可提供从工艺方案沟通、设备定制到售后运维的全流程服务。

关注科伟达,下次展会,我们不见不散。

2026-09-15 46人浏览